SK海力士3日宣布，已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）引进韩国利川M16工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式。
SK海力士25日宣布，已开发完成并开始向客户供应业界首款采用“High-K EMC”材料的高效散热移动DRAM产品。
SK海力士25日宣布，已开发出321层2Tb（太比特，Terabit）QLC NAND闪存产品，并开始量产。
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