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SK海力士HBM设计担当朴明宰副社长:“HBM的成功之道在于其压倒性技术实力”

By 2024年06月27日 No Comments

今年3月,SK海力士开始量产最高性能的HBM3E1,并将下一代HBM4的量产时间提前至明年,巩固了公司作为“面向AI的存储器(Global No.1 AI Memory Provider)”的地位。

1HBM3E: 最新款第五代高带宽存储器(HBM)产品。HBM是一种高附加值、高性能存储器,通过硅通孔技术(TSV)垂直互联多个DRAM芯片,以提升数据处理速度。该产品按照HBM、HBM2、HBM2E、HBM3、HBM3E的顺序开发。

HBM正式公诸于世不过两三年时间,彼时生成式人工智能刚刚在科技界掀起波澜。因此,有人认为SK海力士的HBM产品获得了“闪电式的成功”。然而事实上,公司之所以崛起成为行业的佼佼者,正是因为顶尖技术人员15年来在HBM领域深耕细作、磨砺出的独特技术。

本文采访了HBM设计担当朴明宰副社长,分享了SK海力士HBM产品的成功秘诀。

从创立之初,到如今的顶级地位,皆源自不断积累的技术沉淀

SK海力士HBM发展历程

SK海力士HBM发展历程

 

2013年12月,SK海力士首款HBM产品成功面世。早在2009年,公司就预测市场对高性能存储器的需求将会持续增加,并专注于硅通孔技术(TSV,Through Silicon Via) 的开发,作为研发该产品的基础技术。历时四年多,SK海力士于2013年推出了全球首款基于TSV技术的第一代HBM产品。

2硅通孔技术(TSV,Through Silicon Via):一种在DRAM上打数千个微孔使其垂直互连至电极的技术。

然而,SK海力士要在 HBM 上大显身手还有很长的一段路要走。因为在2010年代,计算机市场还没有成熟到可以接受当下“超出需要”的高速度、高容量的HBM产品。因此,公司在第二代产品HBM2开发中遇到困难时,有许多人对HBM业务的前景表示担忧。朴明宰副社长将该时期描述为“在危机中发现机遇的时期”。

朴副社长将HBM2E视为公司HBM业务的关键转折点

朴副社长将HBM2E视为公司HBM业务的关键转折点

 

“在2010年代中后期,HBM设计部门被普遍认为处境艰难。公司在研发 HBM2的过程中遇到重重困难,更为严峻的是,市场增长趋势远不如预期。随着对该产品业务前景的担忧不断增加,业界出现了悲观情绪。

但我们深信,HBM是展现SK海力士独特技术实力的绝佳机会。只要能研发出顶尖产品,能够应用这些产品的服务自然会应运而生。这也是推动公司研发HBM2E及其后续产品的驱动力。”

在此过程中,朴副社长逐渐认识到“成功的关键是要确保产品具备超越客户和市场要求的一流性能”。他回忆称,当时自己也是为了这个目标而全身心投入到研发HBM2E产品中。

“从HBM2E开始,我们便以远超外界期待值为目标,并加强了团队协作。研发HBM需要将各种复杂技术巧妙结合,因此与相关团队合作解决挑战、创造协同效应尤为关键。得益于此,我们取得了显著技术进步。MR-MUF3 、HKMG4 和 Low-K IMD5 等主要基础技术,以及针对目前技术框架的设计和测试技术,均在此阶段打下了坚实的基础。”

3批量回流模制底部填充 (MR-MUF, Mass Reflow Molded Underfill): 在堆叠半导体芯片后,为了保护芯片间的电路,在其中填充液体保护材料,使其固化。 有评价称,与每堆一个芯片就铺设薄膜型材料的方式相比,该技术提高了效率和散热效果。 特别是SK海力士的高级MR-MUF技术,较现有技术减少了芯片堆叠时所施加的压力,提高了芯片的翘曲控制力(Warpage Control),这是确保 HBM 供应生态系统稳定量产的关键。

44HKMG (High-K Metal Gate):在DRAM晶体管内的绝缘膜上采用高K栅电介质,在防止漏电的同时还可改善电容(Capacitance)的新一代工艺。不仅可以提高内存速度,还可降低功耗。

5Low-K IMD (Low-K Inter Metal Dielectrics):一种在半导体芯片内部布线间插入低介电常数(K)材料以减少电气干扰并提高性能的技术。

以自主技术开启HBM的复兴之路

2020年代初,市场预测存储器供应商之间会就 HBM3 主导地位展开激烈竞争,但结果却出乎意料。SK海力士通过持续且积极的技术开发与投资,成功巩固了行业领先地位。

朴副社长认为,性能、质量及市场应对力为SK海力士HBM业务带来优势

朴副社长认为,性能、质量及市场应对力为SK海力士HBM业务带来优势

 

“当时,SK海力士不仅在技术上有所突破,而且在客户关系和质量方面也持续进行创新。最终,HBM3凭借压倒性的性能与特性,赢得了较高的市场份额,公司领先HBM领域的地位也得到了明确认可。”

此后,“HBM的成功故事”接连不断。在成功研发出全球最高容量12层HBM3产品的4个月后,公司于2023年8月推出了 HBM3E,大幅缩短了产品的上市时间。

“随着人工智能企业之间的竞争加剧,我们必须加快 HBM 的开发速度。对此,SK海力士不断改善设计验证,提高了产品设计的完成度,自研发及量产初期便与客户公司保持紧密合作,付出了诸多努力。因此,我们于今年 3 月实现了HBM3E量产,并将产品率先提供给客户。

朴副社长强调,成功的秘诀是“性能、质量及市场应对力”。

“SK海力士的HBM产品具备业界最佳的速度和性能。尤其是我们独有的MR-MUF技术,为高性能提供了最稳定的散热,为造就全球顶尖性能提供了保障。此外,公司拥有快速量产优质产品的能力,我们对客户需求的响应速度也是首屈一指的。这些竞争优势的结合使HBM3E脱颖而出,跻身行业前列。”

朴副社长表示,团队成员们未因业绩而感到自满,反而以“一个团队”协作精神持续推动技术革新,这对产品的成功也起到很大作用。

朴副社长表示,跨公司合作是研发HBM3E的关键

朴副社长表示,跨公司合作是研发HBM3E的关键

 

“除了第二代HBM,公司始终稳居第一,并努力拉大与后来者之间的差距。特别是我们一直努力在功耗不变的情况下,致力于将每代产品的性能提升50%,这似乎是一项不可能完成的任务,但在封装团队及未来技术研究院等众多组织的努力下做到了这一点。每当在开发或量产中出现问题,此领域的专门团队都会迅速给出解决方案。我认为,正是这种高效的协作体系,才造就了全球最佳性能的HBM3E。”

朴副社长(左二)与其他SK集团“2024年度SUPEX追求奖”获奖人合影

SK海力士CEO郭鲁正(最左)、 朴明宰副社长(左二)、SK集团SUPEX追求协议会崔昌源议长
(最右)与其他SK集团“2024年度SUPEX追求奖”获奖人合影(图片来源:SK集团)

 

得益于这些努力,在本月5日,朴副社长及其核心技术团队被共同授予SK 集团的最高荣誉——“2024年度SUPEX追求奖”,以表彰其在HBM领域的卓越贡献。

“荣获‘SUPEX追求奖’对我们来说是一份莫大的荣耀,我代表所有为产品研发而贡献力量的成员们,怀以谦卑之心表示由衷的感谢。HBM不仅证明了我们压倒性的技术实力,还引领了AI技术的发展,为整个社会做出了重大贡献。未来,我们将尽最大努力,确保公司在这一领域持续保持领先地位。”

新一代HBM将通过定制化实现变革,以持续创新稳固领先地位

朴副社长明确指出,不久前有关HBM开发的传闻是“毫无根据的”,坚定了未来继续保持竞争优势的决心。

“SK海力士HBM如今取得的成绩,是所有成员在过去15年间辛勤工作的共同成果。前不久,有谣言称竞争对手公司的HBM团队加入我们公司进行这项技术的研发,这是毫无事实根据的。对于凭借自身努力而实现技术开发的团队成员而言,这无疑会挫败团队成员的自尊心。 SK海力士的HBM分明是公司自身的技术,当时没有一名从竞争公司进入我们HBM设计组织的人员。我认为,正因公司技术实力强大,才会传出不实谣言。未来,我们决心更加努力地工作,以保持持续的优势。”

不断创新是捍卫和巩固现有地位的关键。由于HBM定制性产品需求日趋多元化,未来我们与客户及晶圆代工企业的紧密协作将更加重要。面对不断变化的市场环境,我们将顺应形势,稳步前行,持续保持领先地位。”

朴副社长认为,SK海力士众多面向AI的存储技术将创造新机会

朴副社长认为,SK海力士众多面向AI的存储技术将创造新机会

 

最后,朴副社长表示,他对除HBM 外的新一代面向AI的存储技术充满信心,并分享了他对未来的期许。

“不仅限于HBM,CXL®6 、PIM7 、及3D DRAM等面向AI的存储技术也将带来新的机遇,公司已做好准备,在下一代适用于AI的存储器领域保持领先地位。

回顾过去,HBM是公司向高附加值业务进军的起点。我为此感到自豪,也深知责任重大。展望未来,HBM设计团队将不会止步于当前成就,而是凭借团队的技术实力和协作体系,持续推动创新。我们将不遗余力的努力,让SK海力士成为引领AI产业的核心企业。”

6CXL® (Compute Express Link): 一种整合内存和其他设备间接口的技术,可使高性能计算系统轻松扩展带宽,并实现高容量。(带宽:发送和接收数据的途径)

7PIM (Processing-In-Memory): 在内存中集成处理器计算功能的下一代智能半导体。

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