SK海力士荣庸 “2023 R&D 100”研发创新大奖, 采访新一代“KV-CSD”研发团队

SK海力士荣庸 “2023 R&D 100”研发创新大奖, 采访新一代“KV-CSD”研发团队

SK 海力士键值计算存储驱动器(KV-CSD)荣庸2023 R&D 100“IT/电气类”研发创新大奖 全球首次将 “索引技术”应用于数据键值,大幅加快数据分类及处理速度 有望以超高速性能在人工智能、大数据、高性能计算领域做出贡献 “我们将努力促使SK海力士的技术成为国际标准,以提高公司的竞争力”   SK海力士于11月16日宣布,其技术团队凭借新一代存储设备——键值计算存储驱动器(KV-CSD,Key Value Computational Storage...
[半导体后端工艺:第九篇] 探索不同材料在传统半导体封装中的作用

[半导体后端工艺:第九篇] 探索不同材料在传统半导体封装中的作用

可靠性和稳定性是保障半导体产品顺畅运行的关键因素。半导体器件的封装必须注意避免受到物理、化学和热损伤。因此,封装材料必须具备一定的质量要求。随着业界对半导体产品运行速度的要求不断提高,封装材料需要具备更优异的电气性能,比如具备低介电常数(Permittivity)1和介电损耗(Dielectric...
[SK海力士40周年庆典] 郭鲁正社长表示,SK海力士将成为引领人工智能时代的定制型半导体存储器公司

[SK海力士40周年庆典] 郭鲁正社长表示,SK海力士将成为引领人工智能时代的定制型半导体存储器公司

随着人工智能时代的到来,商业性质也正在发生改变。郭鲁正社长表示:”即将迎来满足客户多样性需求的定制型存储器时代。” 由韩国利川、清州和龙仁工厂组成的“三角区”将成为半导体生产的圣地,SK海力士将发展成为既专注业务,又同时实现社会贡献的公司。 在座谈中,员工们表达了对公司横向企业文化和员工自治体制的自豪感。 ▲SK海力士社长兼联合CEO郭鲁正在公司成立40周年之际与员工现场交谈(左起:孙爱利TL,郭鲁正社长,林书铉TL,马庆秀Master)  ...
[半导体后端工艺:第八篇] 探索不同晶圆级封装的工艺流程

[半导体后端工艺:第八篇] 探索不同晶圆级封装的工艺流程

在本系列第七篇中,介绍了晶圆级封装的基本流程。本篇文章将侧重介绍不同晶圆级封装方法所涉及的各项工艺。晶圆级封装可分为扇入型晶圆级芯片封装(Fan-In WLCSP)、扇出型晶圆级芯片封装(Fan-Out WLCSP)、重新分配层(RDL)封装、倒片(Flip Chip)封装、及硅通孔(TSV)封装。此外,本文还将介绍应用于这些晶圆级封装的各项工艺,包括光刻(Photolithography)工艺、溅射(Sputtering)工艺、电镀(Electroplating)工艺和湿法(Wet)工艺。 扇入型晶圆级芯片封装工艺...
SK海力士在CIS HDR技术方面的发展与未来展望

SK海力士在CIS HDR技术方面的发展与未来展望

在过去几十年间,手机技术发展已实现了质的飞跃。从20世纪90年代末,随着移动通信技术发展而诞生的功能性手机,到如今常见的智能手机,手机已不仅仅是用来通话和收发讯息的工具。由于具备高性能摄像功能,当下人们普遍认为智能手机是重型数码单反相机(DSLR camera)的替代品。本文将介绍SK海力士为提升智能手机用户的拍摄体验而开发的各项技术,且将重点介绍高动态范围(HDR)1技术。 1高动态范围...