![[半导体前端工艺：第一篇] 计算机、晶体管的问世与半导体](https://dfovt2pachtw4.cloudfront.net/wp-content/uploads/2022/11/03071033/SKhynix_Semiconductor_frontend_process_episode_1_Thumbnail-CN.jpg)
由 user | 11 月 22, 2022 | featured, 技术
无可否认，不论是半导体技术还是其产业本身，都已经成为所有市场中最大的产业之一。全球媒体、企业和政府也纷纷把目光投向了半导体工厂的下一个建设地。而每一次的技术革新都会进一步增加对智能设备的需求，半导体芯片的重要性也随之变得愈加突显。 然而，人们对半导体的变迁史和崛起却未必同样熟悉。从家用电器到智能手机，半导体是驱动电子设备不可或缺的元件。本期文章就来追溯一下这一核心元件的起源，了解一下它是如何成为我们日常生活的重要组成部分的。 以下六篇文章将详细介绍半导体的特征及工艺：“计算机与晶体管（Computers and...
由 user | 11 月 15, 2022 | ESG, featured
SK海力士获得了瑞士国际标准认证机关SGS（Société Générale de Surveillance）的“国际有害物质管理体系标准——IECQ QC 080000”认证。这是评定企业是否具有绿色芯片供应所需的有害物质管理能力的一个重要认证，SK海力士在韩国国内综合半导体企业中首次获得了该认证。...
由 user | 11 月 10, 2022 | featured, 企业文化和员工
▲ 最近，SK海力士正式发售超低功耗的LPDDR5X SK海力士全球首次在移动端DRAM采用了“HKMG（High-K Metal Gate）”*工艺，成功研发出了LPDDR5X（Low Power Double Data Rate 5X），并于近期开始正式销售。 *HKMG（High-K Metal Gate）：在DRAM晶体管内的绝缘膜上采用高K栅电介质，在防止漏电的同时还可改善电容（Capacitance）的新一代工艺。不仅可以提高内存速度，还可降低功耗。 这款产品可在固态技术协会（JEDEC，Joint...
由 user | 11 月 8, 2022 | featured, 洞见
由于传统微缩(scaling)技术系统的限制，DRAM的性能被要求不断提高，而HKMG(High-k/Metal Gate)则成为突破这一困局的解决方案。SK海力士通过采用该新技术，并将其应用于全新的1anm LPDDR5X DRAM, 即便在低功率设置下也实现了晶体管性能的显著提高。本文针对HKMG及其使用益处进行探讨。 厚度挑战: 需要全新的解决方案 组成DRAM的晶体管(Transistor)包括存储数据的单元晶体管(Cell Transistor)、恢复数据的核心晶体管(Core...
由 user | 11 月 8, 2022 | featured, 技术
近年来，城市化进程在全球范围内持续加速，科技研发成果的不断突破则促使更多目光聚焦至大数据、物联网、云计算等先进技术手段，关注其对城市生活空间的整体贡献。“智慧城市”这一概念应运而生，通过在城市规划、建设、管理、运营等过程中显著提升信息及通信技术的质量与效率，实现及时沟通反馈信息、高效应对公共危机、实时监测安全事件、生态环境精确治理等目标，旨在放眼城市全局，描绘一幅由智能计算技术赋能的未来城市图景。...
由 user | 10 月 27, 2022 | featured, 技术
作为下一代4D NAND闪存产品研发计划的一部分，SK海力士近期成功研发了238层NAND闪存，堆叠层数创下业界高度之最。这款产品的研发难度不亚于将40亿栋238层高建筑塞进一角硬币大小的区域。 这些微型“摩天大楼”让我们能够在个人电脑、服务器、以及其它设备上存储我们所有的生活记忆和大量的工作资料。 本文回顾了SK海力士在NAND技术领域取得的突破性成就，以及获得的市场领先优势和创建的行业标准。 对高性能NAND的需求日益增长...
